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太陽(yang)能鈣鈦(tai)礦電(dian)(dian)池激(ji)光刻蝕(shi)機(ji)，采用(yong)飛秒(miao)激(ji)光刻蝕(shi)設備適用(yong)于ITO、FTO、氧(yang)化(hua)鋅、氧(yang)化(hua)鋯、氧(yang)化(hua)鈦(tai)、氧(yang)化(hua)鎳NiOx、金(jin)、銀、碳粉、銅、鋁等導電(dian)(dian)金(jin)屬、氧(yang)化(hua)物材料激(ji)光刻蝕(shi)。也(ye)可針對玻璃、硅片、氧(yang)化(hua)鋯陶瓷等材料超細線寬激(ji)光刻蝕(shi)、劃(hua)線、刻槽。

同時，適用于其(qi)他多層材(cai)料超細線寬激(ji)光刻蝕(shi)(shi)加(jia)工，如(ru)不銹鋼網上的(de)PI膜刻蝕(shi)(shi)、玻璃(li)基材(cai)上PI膜刻蝕(shi)(shi)、不銹鋼光柵劃線等應用。

設(she)備簡介

設備采用(yong)固體激(ji)(ji)光器，激(ji)(ji)光波長1030nm，適(shi)合對導電(dian)玻璃與鍍層進(jin)行精細(xi)刻線；采用(yong)自主研發的控制軟(ruan)件、直接(jie)導入(ru)CAD 數據進(jin)行激(ji)(ji)光刻蝕(shi)，操作簡單，方便快捷；通過軟(ruan)件實時調節(jie)振鏡與直線電(dian)機、電(dian)動升(sheng)降工作臺的設計，加上真空吸(xi)附托盤(pan)裝置，能有(you)效地解決激(ji)(ji)光刻蝕(shi)機在加工運行中的平穩(wen)性(xing)；采用(yong)獨特除塵系統設計，能保證玻璃與工作平面的清潔，保證激(ji)(ji)光刻蝕(shi)過程中無殘(can)留。

設備集數控技(ji)術(shu)(shu)、激光技(ji)術(shu)(shu)、軟件技(ji)術(shu)(shu)等(deng)光機電高(gao)技(ji)術(shu)(shu)于一(yi)體，具(ju)有(you)高(gao)靈活性(xing)、高(gao)精(jing)度、高(gao)速度等(deng)先進制造(zao)技(ji)術(shu)(shu)的(de)(de)特征。可大范圍內進行各(ge)種圖(tu)案，各(ge)種尺寸的(de)(de)精(jing)密(mi)、高(gao)速刻蝕，并(bing)且能夠(gou)保證很高(gao)的(de)(de)產(chan)能，是一(yi)個可靠、穩定和(he)具(ju)有(you)高(gao)性(xing)能價格(ge)比(bi)的(de)(de)產(chan)品。

適用(yong)行業

玻璃、硅片(pian)、陶(tao)瓷、PET薄膜等基底上鍍膜激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)蝕，常用于觸摸(mo)屏、光(guang)(guang)(guang)(guang)伏(fu)太陽能電池、電致(zhi)色玻璃、調光(guang)(guang)(guang)(guang)玻璃、發光(guang)(guang)(guang)(guang)玻璃、其(qi)它顯(xian)示(shi)屏等行業激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)蝕加工。

整(zheng)體說明(ming)

主要構成：激(ji)光(guang)器、光(guang)路系統、運動系統、控制系統、 定位系統、 抽塵(chen)系統、 真吸附空系(xi)統等組成(cheng)。

主(zhu)要技術參(can)數(shu)

注：根據實(shi)驗室前期實(shi)驗性(xing)階段(duan)需要，武漢(han)元(yuan)祿光電針對性(xing)開發出(chu)了(le)實(shi)驗室階段(duan)小(xiao)型激光刻(ke)蝕機，適(shi)用于(yu)100*100mm以下導電玻璃激光刻(ke)蝕、劃線應用，歡迎前來咨詢了(le)解(jie)。