ITO是一(yi)種N型的氧(yang)化(hua)物(wu)半導(dao)體，中文名(ming)為(wei)氧(yang)化(hua)銦錫(xi)，因為(wei)其導(dao)電(dian)性、透光率較好常用于玻(bo)璃或柔性材PET基材上的(de)導電氧化物，用于觸摸屏、光伏、冷(leng)光片、傳感器(qi)、電致色(se)玻(bo)璃(li)、發光玻(bo)璃(li)等行業(ye)。通常情況下利用平面磁控技(ji)術(shu)在玻(bo)璃(li)或柔性PET等(deng)材料上濺射ITO材(cai)料，并(bing)通過高溫(wen)退火處理(li)得到ITO鍍膜玻璃或薄膜材料。
ITO導電(dian)玻璃
而ITO鍍膜(mo)玻(bo)璃或薄膜(mo)原材料由于(yu)是(shi)一整塊都是(shi)ITO材(cai)料(liao)，應用到(dao)觸控面板(ban)、顯示面板(ban)、太陽能(neng)電池、微電子(zi)、光電子(zi)等領域中就需要對其進行加工，形成特定線路圖，而對ITO材料的初加工工藝(yi)成了(le)關(guan)鍵環(huan)節。
ITO鍍膜(mo)(mo)玻(bo)璃或薄膜(mo)(mo)的材料(liao)線路成(cheng)型加工主要有黃(huang)光(guang)曝光(guang)、化學蝕刻(ke)、等離子蝕刻(ke)以及(ji)激光(guang)刻(ke)蝕設備。
黃光(guang)曝光(guang)加工效(xiao)果(guo)好，速度快，缺點是需要用到掩膜版，ITO線路要求(qiu)有的(de)多達數千種，每一種都需要掩膜版(ban)，這(zhe)對(dui)設計加工的(de)成本(ben)太(tai)高，就是存儲也會浪(lang)費大量的(de)空間，因(yin)此黃光(guang)曝光(guang)工藝目(mu)前只保留(liu)在特殊(shu)要求(qiu)領域中(zhong)使用。
黃光曝光設備（圖(tu)片(pian)源自(zi)網(wang)絡(luo)）
化學蝕(shi)刻(ke)加(jia)工速度高，效果好，缺(que)點(dian)是大量(liang)的化學試(shi)劑對(dui)人體和環境(jing)會造成(cheng)污(wu)染，特別是在當今(jin)社(she)會中人與自然的協調(diao)愈加(jia)重(zhong)要(yao)，環境(jing)問題(ti)已加(jia)以限制(zhi)，并控制(zhi)在一定范圍內(nei)。當然化學蝕(shi)刻(ke)也有技(ji)術(shu)工藝缺(que)點(dian)隨(sui)著(zhu)下(xia)游產品對(dui)ITO鍍膜(mo)材(cai)料的(de)要(yao)求越(yue)來越(yue)高，超(chao)細線(xian)寬的(de)ITO材料化學(xue)蝕刻工藝已感到(dao)力(li)不從心。
化學刻蝕設備(bei)（圖(tu)片源(yuan)自網絡）
等離子蝕刻(ke)效果(guo)和(he)速度都非常理想，不(bu)過工(gong)藝(yi)流(liu)(liu)程(cheng)較為(wei)復雜，灑家也(ye)不(bu)太明白具體(ti)(ti)的(de)(de)工(gong)藝(yi)流(liu)(liu)程(cheng)，想想晶圓的(de)(de)制(zhi)作流(liu)(liu)程(cheng)，想來大家也(ye)知道了其(qi)復雜程(cheng)度。不(bu)過相比較于ITO鍍膜材料(liao)的加(jia)工，等離子蝕(shi)刻設(she)備還是小兒(er)科了，很容(rong)易實現，也有簡易版的適用(yong)于ITO材料，相比較(jiao)(jiao)而(er)言等離子刻蝕的(de)成本相對較(jiao)(jiao)高。
等離子刻(ke)蝕設(she)備（圖片源自網絡(luo)）
激光(guang)刻蝕(shi)設備(bei)是目(mu)前的(de)主流ITO刻蝕工藝(yi)，適用于柔性pet以(yi)及玻璃上的導電(dian)ITO激光刻蝕，優點是工藝流程簡單，導入CAD圖(tu)紙即可相機(ji)自(zi)動定位加(jia)工，一(yi)次性(xing)成型(xing)，對環境無污染(ran)，無掩膜版，只用(yong)消耗(hao)電(dian)力(li)，并且易(yi)于自(zi)動化，加(jia)工尺寸可超過(guo)3m以上，優勢顯(xian)而易見。目前ITO材(cai)料刻蝕(shi)(shi)的(de)線寬(kuan)要求(qiu)越來越高(gao)，傳統的(de)納秒紅外(wai)激光刻蝕(shi)(shi)機的(de)最小線寬(kuan)只(zhi)能做到20微米，而(er)隨(sui)著激光技術的進步，ITO材料刻蝕最小(xiao)線寬(kuan)可做到10微(wei)米(mi)以下，可保持與(yu)ITO材料應用(yong)行業需求的發展(zhan)同步(bu)。
ITO激光刻蝕(shi)設備
ITO鍍膜玻璃、薄膜刻蝕工藝(yi)是太(tai)陽能電池、觸摸屏(ping)、光電子等(deng)行(xing)業領域(yu)中(zhong)重要(yao)工藝(yi)環(huan)節，要(yao)保(bao)證(zheng)生產效率、生產成本、環(huan)境保(bao)護，ITO激光刻蝕機必不可少(shao)，武(wu)漢元祿光電專業生產激(ji)光刻蝕設備，擁(yong)有豐富的經驗(yan)、過硬的技(ji)術(shu)，歡迎大家前來洽談了解。
推薦設備：導電(dian)玻(bo)璃激光刻蝕機
