激光刻蝕ITO有殘留如何處理？
發(fa)布(bu)時間：2020-04-13 點(dian)擊量(liang)：3559
貝先生 2020-04-13
激光刻蝕ITO有殘留(liu)如(ru)何處(chu)理(li)？
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激光刻(ke)蝕ITO、FTO、氧(yang)化鎳等(deng)透(tou)明導電氧(yang)化物有(you)殘留的原因(yin)大體上分為兩(liang)種(zhong)。一(yi)種(zhong)是因(yin)為選用的激光波長或激光工作模式(shi)不對以及設(she)置(zhi)工藝(yi)參數(shu)不對造(zao)成的技術層面殘留；第二(er)種(zhong)是由于刻(ke)蝕線寬(kuan)太(tai)窄，激光加工后的煙(yan)霧殘留，未能清除干凈(jing)造(zao)成二(er)次(ci)污染形(xing)成。
第一種解(jie)決(jue)方(fang)案(an)是(shi)(shi)重新調整技術參(can)數，如果是(shi)(shi)硬件原因(yin)(yin)造(zao)成(cheng)(cheng)，建(jian)議增(zeng)大刻(ke)蝕(shi)的線寬觀察(cha)是(shi)(shi)否仍有殘留，可通過(guo)改(gai)變硬件條件改(gai)善。第二種解(jie)決(jue)方(fang)案(an)是(shi)(shi)增(zeng)加(jia)吹氣及抽塵裝置(zhi)，部(bu)分廠(chang)家售(shou)賣機器并未考慮到(dao)這個因(yin)(yin)素，元(yuan)祿光電(dian)根據公(gong)司產(chan)(chan)品(pin)經驗推薦使用煙霧凈化裝置(zhi)，尤(you)其是(shi)(shi)在北方(fang)冬(dong)天，需要(yao)注意防范，另外某些特殊(shu)場合下還(huan)需要(yao)增(zeng)加(jia)等(deng)離子(zi)風(feng)作為吹氣設施，保證加(jia)工過(guo)程中(zhong)不會因(yin)(yin)為空氣中(zhong)的水(shui)分子(zi)造(zao)成(cheng)(cheng)產(chan)(chan)品(pin)壽命的降低，造(zao)成(cheng)(cheng)產(chan)(chan)品(pin)材料(liao)降解(jie)、分解(jie)等(deng)，如鈣鈦礦電(dian)池。
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