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發(fa)布(bu)時間(jian):2018-06-07 來源:元祿(lu)光電
一、影響打標效(xiao)率的因素
對于固定(ding)的(de)標刻(ke)圖(tu)形,影響打標效(xiao)率的(de)因素(su)可(ke)以分(fen)為設備(bei)本身和加工材料。從這兩大因素(su),可(ke)以細(xi)分(fen)到(dao)不同(tong)的(de)方(fang)面:
因此最終影響(xiang)打標(biao)效率的有填充類(lei)型、場(chang)鏡(填充線間距(ju))、振鏡(掃描速度(du))、延時、激(ji)光器(qi)、加工材料等因素。
二、提(ti)高(gao)打標效率的措(cuo)施
1選擇合適的填充類(lei)型
弓(gong)形填充:打標效率最高(gao),有時會出現銜接線、不均勻問(wen)題。打標細的圖形、字體(ti)時,不會出現上(shang)述問(wen)題,所(suo)以弓(gong)形填充為首選。
雙向填充(chong):打標效率次之,效果好。
單向填充:打標效率最慢(man),實際加工(gong)中很少使用。
回形填(tian)充:只有(you)打標細的圖形、字體時才會使(shi)用,效率與(yu)弓形填(tian)充差(cha)不多(duo)。
備注:在(zai)不要求細節效果的情況下,使(shi)用弓形填充可以(yi)提高打標效率(lv)。雙向填充是能保證效果和(he)效率(lv)的最佳選擇。
2選擇(ze)合(he)適的場鏡(jing)
場鏡(jing)焦距(ju)越大,聚焦光斑越大;同(tong)樣光斑重(zhong)疊率下(xia),可(ke)以增大填(tian)充線間距(ju),從而(er)提高了打標效率。
備注:場鏡越大,功率密(mi)度越小(xiao),因此要保證足夠打標能量的情況下(xia)增(zeng)大填(tian)充線(xian)間距。
3選擇高速的振鏡
普通(tong)(tong)振(zhen)鏡(jing),最(zui)高(gao)掃(sao)描速(su)(su)(su)度只能到達兩三千毫(hao)米(mi)每秒;高(gao)速(su)(su)(su)振(zhen)鏡(jing),最(zui)高(gao)掃(sao)描速(su)(su)(su)度可以達到上萬毫(hao)米(mi)每秒,有效地提(ti)高(gao)打(da)標效率。另外,使用(yong)普通(tong)(tong)振(zhen)鏡(jing)打(da)標細小的圖形或字體(ti)時(shi),容(rong)易(yi)出(chu)現變形,必(bi)須(xu)通(tong)(tong)過降低(di)掃(sao)描速(su)(su)(su)度來保(bao)證效果。
4設置合適的延(yan)時
不同的(de)(de)填(tian)充類型(xing)受不同延時的(de)(de)影響,因此減(jian)小與該填(tian)充類型(xing)無關的(de)(de)延時,可以(yi)提高打標(biao)效率。
弓形填充、回形填充:主要受拐角延(yan)時影響,可以減(jian)小開光(guang)(guang)延(yan)時、關(guan)光(guang)(guang)延(yan)時、結束延(yan)時。
雙向(xiang)填(tian)充(chong)、單(dan)向(xiang)填(tian)充(chong):主要(yao)受開光延時(shi)(shi)、關光延時(shi)(shi)影響,可(ke)以(yi)減小拐角延時(shi)(shi)、結束延時(shi)(shi)。
備(bei)注:粗的圖形、字(zi)體受(shou)延時影響小(xiao),可(ke)(ke)以適當減小(xiao)延時。細的圖形、字(zi)體受(shou)延時影響大(da)(da),可(ke)(ke)以適當增大(da)(da)延時。
5選擇(ze)正確的(de)激光器
首(shou)脈沖(chong)可(ke)(ke)用的激光器,調整好首(shou)脈沖(chong)高度(du),開光延(yan)時可(ke)(ke)以(yi)為0,對于雙向填充、單(dan)向填充這些(xie)經常開關的方(fang)式,可以有效地提高打標效率。
選擇脈沖寬度與脈沖頻率(lv)獨立可調的激(ji)光(guang)(guang)器,既可保證在高掃描速度下,聚焦后(hou)光(guang)(guang)斑能(neng)有一定重疊量(liang),又能(neng)保證激(ji)光(guang)(guang)能(neng)量(liang)有足夠(gou)的峰值(zhi)功率(lv),達到材料(liao)的破壞閾值(zhi),使材料(liao)氣化(hua)。
6加(jia)工材料
例如:好的(de)(氧(yang)化(hua)(hua)層厚、氧(yang)化(hua)(hua)均勻、無拉(la)絲(si)處理、噴砂(sha)細(xi)膩)陽極(ji)氧(yang)化(hua)(hua)鋁(lv),掃描速度達(da)到兩三(san)千(qian)毫米(mi)每(mei)(mei)秒時,還(huan)可以(yi)打出很黑的(de)效果;差的(de)氧(yang)化(hua)(hua)鋁(lv),掃描速度只(zhi)能達(da)到幾百毫米(mi)每(mei)(mei)秒。因此,合適的(de)加工(gong)材料,可以(yi)有效的(de)提高(gao)打標效率。
7其(qi)它措(cuo)施
勾選“平均分布(bu)填充線”
對于打標粗的圖形、字體(ti),可(ke)以去除“使(shi)能(neng)輪(lun)廓”和“饒邊走一次”
在(zai)效(xiao)果允許的情況下,可以增大“高級”的“跳轉速度”、減小“跳轉延時(shi)”
打(da)標(biao)大范圍(wei)的圖形(xing),適當(dang)地(di)分成幾部分填(tian)充,可(ke)以有效地(di)減(jian)小跳轉(zhuan)時間,提高打(da)標(biao)效率。
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