激光切割(ge)：利用(yong)(yong)高(gao)能量密度的(de)激(ji)光束作(zuo)為(wei)“切割(ge)(ge)刀具”對材(cai)料進行熱切割(ge)(ge)的(de)一種材(cai)料加工方(fang)法。特點是利用(yong)(yong)能量密度極高(gao)的(de)激(ji)光束照射(she)工件切割(ge)(ge)部位，使其材(cai)料瞬間熔化或蒸(zheng)發，并(bing)在沖擊波作(zuo)用(yong)(yong)下將熔融物(wu)質噴射(she)出去。
激光切割(ge)技術
激(ji)光焊接：對于具有共(gong)熔性的同種或異種金(jin)(jin)屬(shu)，在(zai)激光照射下，由于吸收(shou)光能，使局部(bu)溫(wen)度迅(xun)速(su)升高，在(zai)功率密度恰當時(shi)，局部(bu)被(bei)照射部(bu)分(fen)的金(jin)(jin)屬(shu)達到熔點，但不(bu)發生汽化，待(dai)熔化金(jin)(jin)屬(shu)冷卻后，兩部(bu)分(fen)材(cai)料就焊接(jie)在(zai)一起(qi)，這是一種很直接(jie)簡便的焊接(jie)方法(fa)。
激光焊接(jie)技術
激光打(da)標：利(li)用高能量密度的(de)激(ji)光對工件進行(xing)局部(bu)照射，使表層材料(liao)汽化(hua)或發生顏色變化(hua)的(de)化(hua)學反應(ying)，從而留下(xia)永(yong)久性標記的(de)一種打(da)標方法。聚焦后的(de)極(ji)細(xi)的(de)激(ji)光光束如同刀(dao)具(ju)，可將(jiang)物體表面材料(liao)逐點去除(chu)。
激(ji)光打標技(ji)術(shu)
激光清(qing)洗：一(yi)種(zhong)新型激光表(biao)(biao)(biao)面處理技術。它是(shi)利用高能激光束(shu)照射工(gong)(gong)件表(biao)(biao)(biao)面，使表(biao)(biao)(biao)面的污物、銹斑、或涂(tu)層發(fa)(fa)生瞬間蒸(zheng)發(fa)(fa)或剝離，高速有效地清(qing)除對(dui)象表(biao)(biao)(biao)面附著物或表(biao)(biao)(biao)面涂(tu)層，從(cong)而達到(dao)清(qing)潔材(cai)料表(biao)(biao)(biao)面的工(gong)(gong)藝過程。
激(ji)光清(qing)洗(xi)技(ji)術
激光淬火：指用(yong)高功率密度(du)(du)的(de)(de)(de)激光束(shu)快速(su)(su)掃描工件(jian)，在其(qi)表面極薄一層的(de)(de)(de)區域內(nei)，溫(wen)度(du)(du)以極快速(su)(su)度(du)(du)上升到奧(ao)氏體(ti)(ti)化溫(wen)度(du)(du)（高于(yu)相變(bian)點而(er)低于(yu)熔化溫(wen)度(du)(du)），而(er)工件(jian)基體(ti)(ti)溫(wen)度(du)(du)基本保持不變(bian)。當激光束(shu)移開時，由于(yu)熱傳導的(de)(de)(de)作用(yong)，處于(yu)冷態的(de)(de)(de)基體(ti)(ti)使其(qi)迅(xun)速(su)(su)冷卻得到馬氏體(ti)(ti)組織實現(xian)自冷淬火，進(jin)而(er)實現(xian)工件(jian)表面相變(bian)硬化。
激光淬火(huo)技術(shu)
光刻技術：是用平面技(ji)(ji)術制造集(ji)成電(dian)路時(shi)，借助于(yu)光(guang)(guang)(guang)在襯底(di)硅的(de)(de)氧化層上刻(ke)出所需要(yao)的(de)(de)圖形的(de)(de)技(ji)(ji)術。光(guang)(guang)(guang)刻(ke)技(ji)(ji)術是集(ji)成電(dian)路工(gong)藝中(zhong)的(de)(de)關鍵技(ji)(ji)術。激(ji)光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)可以(yi)分為(wei)激(ji)光(guang)(guang)(guang)投影式(shi)(shi)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)和激(ji)光(guang)(guang)(guang)無(wu)掩膜光(guang)(guang)(guang)刻(ke)技(ji)(ji)術。傳統的(de)(de)激(ji)光(guang)(guang)(guang)投影式(shi)(shi)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)技(ji)(ji)術是基于(yu)光(guang)(guang)(guang)學(xue)曝光(guang)(guang)(guang)法，其曝光(guang)(guang)(guang)技(ji)(ji)術最終制約著(zhu)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)工(gong)藝的(de)(de)分辨率(lv)。激(ji)光(guang)(guang)(guang)無(wu)掩膜光(guang)(guang)(guang)刻(ke)技(ji)(ji)術是利用激(ji)光(guang)(guang)(guang)束(shu)在基體的(de)(de)表面直接進(jin)行微納(微米或納米)圖形的制備。 這種技術是直寫式無接(jie)觸(chu)的加工(gong)技術， 因而無需(xu)傳統曝(pu)光(guang)輻射式的光(guang)掩膜以及(ji)納米(mi)壓印接觸式的模(mo)板， 也避免了接觸(chu)時出現的摩擦、粘附污染等問題(ti)。
光刻技(ji)術
使用激(ji)(ji)(ji)光(guang)投(tou)影(ying)式(shi)光(guang)刻技術時，光(guang)束經(jing)過光(guang)學器件系(xi)統聚(ju)焦、投(tou)影(ying)到掩(yan)(yan)膜(mo)上(shang)，經(jing)過掩(yan)(yan)膜(mo)達到光(guang)刻膠膜(mo)面實現(xian)曝光(guang)，但是光(guang)學投(tou)影(ying)系(xi)統的(de)(de)(de)分(fen)辨率受到衍射(she)的(de)(de)(de)限(xian)制(zhi)。激(ji)(ji)(ji)光(guang)在材料上(shang)的(de)(de)(de)作用區(qu)域大(da)小與材料的(de)(de)(de)吸收(shou)系(xi)數、導熱系(xi)數以及激(ji)(ji)(ji)光(guang)脈沖的(de)(de)(de)能量(liang)和(he)持續時間有關，通(tong)過選擇合適的(de)(de)(de)材料、優化加工參數，可以將(jiang)激(ji)(ji)(ji)光(guang)的(de)(de)(de)有效作用點大(da)小控制(zhi)到小于微米的(de)(de)(de)量(liang)級，實現(xian)激(ji)(ji)(ji)光(guang)無掩(yan)(yan)膜(mo)光(guang)刻。
根據制(zhi)備納米(mi)圖(tu)(tu)形原理的(de)(de)不同，典(dian)型的(de)(de)激(ji)光(guang)(guang)無(wu)掩(yan)膜光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)技術有(you)激(ji)光(guang)(guang)近場掃描光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)、干涉(she)光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)、非線(xian)性(xing)(xing)(xing)光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)以及激(ji)光(guang)(guang)熱刻(ke)(ke)(ke)(ke)蝕(shi)和微透鏡陣列光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)等(deng)。激(ji)光(guang)(guang)近場掃描光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)可以克(ke)服衍(yan)射極(ji)限(xian)的(de)(de)限(xian)制(zhi)，實現超分(fen)辨的(de)(de)效(xiao)果。激(ji)光(guang)(guang)干涉(she)光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)可以實現大面積高(gao)效(xiao)制(zhi)備納米(mi)圖(tu)(tu)形，利用(yong)兩束相干光(guang)(guang)形成的(de)(de)平行(xing)駐波圖(tu)(tu)形對(dui)光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠實行(xing)曝光(guang)(guang)。激(ji)光(guang)(guang)非線(xian)性(xing)(xing)(xing)光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)是(shi)利用(yong)材(cai)料的(de)(de)非線(xian)性(xing)(xing)(xing)吸收特(te)性(xing)(xing)(xing)，突破衍(yan)射極(ji)限(xian)的(de)(de)限(xian)制(zhi)，實現高(gao)的(de)(de)分(fen)辨率。激(ji)光(guang)(guang)熱刻(ke)(ke)(ke)(ke)蝕(shi)是(shi)基于材(cai)料吸收光(guang)(guang)子后產生的(de)(de)熱效(xiao)應引發(fa)材(cai)料的(de)(de)物理化(hua)學性(xing)(xing)(xing)質發(fa)生變化(hua)，如(ru)相變和化(hua)學斷(duan)鍵等(deng)，從而使得激(ji)光(guang)(guang)輻(fu)照區(qu)(qu)域(yu)和非輻(fu)照區(qu)(qu)域(yu)在(zai)特(te)定(ding)的(de)(de)顯影(ying)(ying)劑有(you)不同的(de)(de)抗(kang)蝕(shi)性(xing)(xing)(xing)，經(jing)顯影(ying)(ying)后留下圖(tu)(tu)形結構。
激(ji)光照排(pai)：是(shi)用激(ji)光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)束(shu)對感光(guang)(guang)(guang)材(cai)料進行掃(sao)描(miao)曝光(guang)(guang)(guang)以獲(huo)得文字版面。所謂激(ji)光(guang)(guang)(guang)照排技術，就是(shi)將文字通過計算(suan)機分(fen)解為點(dian)陣(zhen)，然后控制激(ji)光(guang)(guang)(guang)在感光(guang)(guang)(guang)底片上掃(sao)描(miao)，用曝光(guang)(guang)(guang)點(dian)的(de)點(dian)陣(zhen)組成(cheng)文字和圖像。
工業(ye)(ye)(ye)顯微技術廣泛地(di)(di)應用(yong)(yong)(yong)于(yu)工業(ye)(ye)(ye)檢測(ce)、工業(ye)(ye)(ye)探傷、精密測(ce)控(kong)、自動(dong)生(sheng)產線等領域。通常(chang)人眼無法快速、連續(xu)、穩定地(di)(di)完成這些(xie)帶有高(gao)度重復性(xing)和(he)準確性(xing)要求(qiu)的工作，由此人們開始考慮利用(yong)(yong)(yong)光電成像(xiang)系統(tong)(tong)采集(ji)這些(xie)被(bei)測(ce)或(huo)被(bei)控(kong)目標的圖(tu)像(xiang)，產生(sheng)了機器視覺(jue)的概念。機器視覺(jue)系統(tong)(tong)又稱工業(ye)(ye)(ye)視覺(jue)系統(tong)(tong)，其原理是(shi)：將產品或(huo)區域進(jin)(jin)行(xing)成像(xiang)，然(ran)后根據其圖(tu)像(xiang)信息用(yong)(yong)(yong)專用(yong)(yong)(yong)的圖(tu)像(xiang)處理軟件進(jin)(jin)行(xing)處理，根據處理結果(guo)，軟件能(neng)自動(dong)判(pan)(pan)斷產品的位置、尺(chi)寸、外觀信息，并根據人為預先設定的標準進(jin)(jin)行(xing)自動(dong)運算，自動(dong)匹配，自動(dong)判(pan)(pan)別(bie)，自動(dong)確定是(shi)否合格，輸出其判(pan)(pan)斷信息給執行(xing)機構，并能(neng)進(jin)(jin)行(xing)結果(guo)分類(lei)和(he)自動(dong)糾(jiu)正。前(qian)沿(yan)機器視覺(jue)技術是(shi)測(ce)控(kong)合一的，屬于(yu)機器人技術地(di)(di)帶，具有高(gao)智(zhi)能(neng)和(he)高(gao)效能(neng)特征。
