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PERC太陽能電池激光劃線技術介紹

發布時間:2020-05-25 來源(yuan):元祿光電

 

激光加工(gong)原理

激光又名鐳射(Laser,它的全名是“輻射的受激發射光(guang)放大”。(Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation)。加(jia)工(gong)原理為(wei)具有較(jiao)高能(neng)量密度的(de)激光束照(zhao)射在被加(jia)工(gong)材料表(biao)(biao)面,材料表(biao)(biao)面吸(xi)收激光能(neng)量,溫度上升,產生熔融、燒(shao)蝕(shi)、蒸發,從而達(da)到去除(chu)表(biao)(biao)層的(de)目的(de)。

 

激光劃線作用

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激光劃線是(shi)利用激(ji)光在硅片(pian)背面(mian)進行打孔或劃線,將(jiang)部分AL2O3SiNx薄(bo)(bo)膜層(ceng)打穿露出硅基體,背電場通過薄(bo)(bo)膜上(shang)的(de)孔或槽(cao)與(yu)硅基體實現接觸(chu)。

 

激光(guang)加工過程

1. 通(tong)過(guo)熱激發或(huo)光激發產(chan)生導帶電子(zi);2. )導帶電子(zi)通過雪崩電離和焦耳加熱吸(xi)收(shou)能(neng)量形成等離子(zi)體;3. )等離子(zi)體(ti)通過電(dian)子(zi)聲子(zi)耦(ou)合將(jiang)能量(liang)傳遞給材料品格;4. )品格被加熱材料熔化、升華;5. )物質的熱擴散和沖擊(ji)波引起周圍物質的變(bian)化。

 

激光規格參數

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激光劃線(xian)系統介紹

激光工作(zuo)原(yuan)理(li)示意圖

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部分實(shi)物示意圖

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光(guang)路(lu)校正檢查(cha)

1)該激光消融設(she)備中,532nm激光從激光器(qi)輸出后(hou)(hou),先(xian)經過(guo)兩路全反(fan)(fan)射鏡(jing)反(fan)(fan)射,再經過(guo)擴束鏡(jing)、手動光闌后(hou)(hou)輸入激光掃描(miao)振鏡(jing)、聚焦透鏡(jing),最后(hou)(hou)輸出經過(guo)聚焦后(hou)(hou)的激光。

 

2)激光經過1號反射鏡,讓其傳輸方向改變(bian)90°;再(zai)經過2號反射鏡,讓其傳(chuan)輸(shu)方(fang)向再改變90°。

 

3 1號反射(she)鏡與2號反射鏡的(de)角(jiao)度對(dui)激(ji)光(guang)(guang)傳(chuan)輸方向非常重要,同時會影響激(ji)光(guang)(guang)傳(chuan)輸的(de)效率,在調整兩者的(de)角(jiao)度時需要特別注意(yi),看激(ji)光(guang)(guang)是否達到90°反射。(90°反(fan)射可以保證激光傳輸過程(cheng)中功率損耗降到最小)通過(guo)2號反射鏡后的激光,經(jing)過擴束鏡中心(xin)輸出,直至掃描振(zhen)鏡輸入(ru)端中心(xin)輸入(ru)。

 

4)設備運(yun)行(xing)一段時間后,需要打開防護(hu)蓋板,確(que)認反射鏡、擴束鏡、光闌(lan)固定螺絲是否(fou)松動。

 

光路校正步驟

1)佩戴好激光防護眼鏡、532nm倍頻片(用(yong)于觀察(cha)光斑)2)調整激光(guang)功率到(dao)合適大小,大致10%左右的激光(guang)功率;3)調整(zheng)1號反射鏡(jing)角度,使得激光達到90°反射(she)到達2號(hao)反射鏡;4)調整2號反射鏡(jing)角度,使得激光達到(dao)90°反射到達擴(kuo)束鏡;5)使用倍頻片觀(guan)察擴束鏡輸出(chu)(chu)端,檢查激光(guang)是(shi)否經過擴束鏡中(zhong)心輸出(chu)(chu)。如果激光(guang)偏(pian)離中(zhong)心輸出(chu)(chu),返回調整2號反射鏡、1號反射(she)鏡。直(zhi)至將(jiang)激光調整到(dao)中(zhong)心輸出(chu);6)調整擴束鏡倍數大(da)小,直至(zhi)將光束調整到(dao)工藝要求合(he)適的工作焦距(ju);7)調整(zheng)(zheng)激(ji)光(guang)從手動(dong)光(guang)闌中(zhong)心(xin)輸(shu)出(chu),調整(zheng)(zheng)光(guang)闌孔徑大(da)小,直至將(jiang)激(ji)光(guang)功率(lv)調整(zheng)(zheng)到工藝所需要(yao)求;8)調整激光(guang)從掃描振鏡輸(shu)(shu)入端中心輸(shu)(shu)入。

 

光路清(qing)潔維護

1)作用:保證(zheng)光(guang)(guang)路(lu)(lu)上各鏡(jing)頭(tou)(片)的潔凈度,決定了(le)它們是(shi)否(fou)能夠發(fa)揮本(ben)身的光(guang)(guang)學(xue)(xue)性能:比如透光(guang)(guang)率、反射(she)率等(deng)等(deng)。光(guang)(guang)路(lu)(lu)系統的維護(hu)主(zhu)要指各個光(guang)(guang)學(xue)(xue)鏡(jing)頭(tou)(片)的除塵(chen)(chen)擦(ca)拭(shi),光(guang)(guang)路(lu)(lu)系統部分的維護(hu)主(zhu)要涉(she)及以下(xia)幾個部位:光(guang)(guang)路(lu)(lu)封閉機構是(shi)否(fou)密封;激光(guang)(guang)頭(tou)輸出窗口是(shi)否(fou)有(you)灰塵(chen)(chen);反射(she)鏡(jing)、擴束鏡(jing)是(shi)否(fou)有(you)灰塵(chen)(chen);掃描振鏡(jing)頭(tou)X/Y反(fan)射鏡片是否有灰塵;至少(shao)每2周(zhou)一次重點檢(jian)查F-θ場鏡輸出(chu)面(mian)是否有灰(hui)塵等污染物,鏡面(mian)必須保證干凈(jing)無任何污染物。

 

光路清(qing)潔維護(hu)操作

在準(zhun)備對這(zhe)些光學(xue)鏡頭、鏡片(pian)進行擦拭除塵之前,必須保證不能移動它們各(ge)自所在的(de)位置。具體操作如下:

1)光路(lu)維護人員首先戴好口罩、手套。

 

2)準(zhun)備擦拭除塵的工具:包括鏡頭清(qing)潔劑(鏡頭清(qing)潔劑由(you)酒(jiu)精(jing)和(he)乙醚配兌而成,酒(jiu)精(jing)和(he)乙醚兩者都要100%的(de),等級(ji)選用分析純的(de),以避免(mian)雜質對鏡頭(tou)的(de)傷害。酒精和乙(yi)醚的(de)比例可取11,南方沿海地區氣候濕(shi)潤(run),可(ke)多加(jia)些(xie)乙醚,比例可(ke)取12)、光學(xue)長絨無塵棉簽棒、光學(xue)擦鏡(jing)紙(zhi)、吹風球等。

 

3)用內六(liu)角(jiao)扳手松開并移(yi)除各光學(xue)鏡頭(tou)處(chu)覆蓋(gai)的封(feng)閉(bi)蓋(gai)板、套筒。在做移(yi)除操作時,動作務必輕柔,切不可將光學(xue)鏡頭(tou)(片)當前的位置(zhi)調(diao)動,包括旋(xuan)鈕螺桿,不能調(diao)動這些(xie)裝置(zhi)。

 

4)將封閉蓋板(ban)和(he)套筒拆掉(diao)后,從正面對視,觀察里面的光學鏡片(頭(tou))是否(fou)有污(wu)染物或(huo)者灰(hui)塵。

 

5)用吹(chui)風(feng)球大致(zhi)吹(chui)一次鏡頭。操作前要先(xian)空(kong)吹(chui)幾下(xia),而后再吹(chui)鏡頭。手握(wo)吹(chui)風(feng)球的方法就(jiu)像握(wo)木棍一樣,出風(feng)嘴(zui)朝下(xia),吹(chui)氣(qi)時四指向著手掌心快(kuai)速(su)擠壓(ya)吹(chui)風(feng)球,這種方法基本可(ke)保證吹(chui)風(feng)嘴(zui)方向穩定。要小心吹(chui)風(feng)嘴(zui)碰鏡頭。

 

6)用棉簽(qian)棒擦(ca)洗相對明顯的(de)贓物或者印(yin)記:

將棉(mian)簽(qian)棒(bang)前端接觸(chu)擦(ca)拭(shi)(shi)液液體表面,多(duo)少以棉(mian)棒(bang)頭(tou)剛好吸滿(man)擦(ca)拭(shi)(shi)液為止(zhi)。切不可將棉(mian)簽(qian)棒(bang)全部浸(jin)入擦(ca)拭(shi)(shi)液。擦(ca)拭(shi)(shi)時同樣(yang)是從鏡頭(tou)的中(zhong)間往邊緣劃圈擦(ca)拭(shi)(shi),棉(mian)簽(qian)的一(yi)個擦(ca)拭(shi)(shi)面僅能擦(ca)拭(shi)(shi)一(yi)次,使用過的棉(mian)簽(qian)禁止(zhi)再次放入鏡頭(tou)清潔劑中(zhong)。棉(mian)簽(qian)棒(bang)不可重復(fu)使用。

 

7)用(yong)光學擦(ca)鏡(jing)紙擦(ca)拭:

對(dui)于小的鏡(jing)頭(片),可(ke)將(jiang)準備好的擦鏡(jing)紙在1/3處對折,換一個(ge)方向再在(zai)1/3處(chu)對折,最后將兩次對折的(de)那(nei)個(ge)角再對折,這樣就得到了一個(ge)45度的尖(jian)角。

 

將尖角(jiao)粘少許清潔劑,避免滴液(ye),而后從鏡頭(tou)的中間往邊緣劃圈擦(ca)拭。擦(ca)拭一(yi)遍過后,這(zhe)個位置就不能再使用(yong)了。還是(shi)這(zhe)塊(kuai)布(bu)換一(yi)個位置再折(zhe)出一(yi)個尖角(jiao),如此返(fan)復直至擦(ca)凈。

 

當(dang)無處可折(zhe)疊時應換一張紙(zhi)(zhi),不得重復使用(yong);對(dui)于大的鏡頭(片),先將擦鏡紙(zhi)(zhi)在1/3處對折,而(er)后將(jiang)(jiang)食指(zhi)放入對折布內,再將(jiang)(jiang)布沿著手指(zhi)尖卷出一個尖角即可。

 

激光參(can)數對(dui)電性能的影響

實(shi)驗樣品

實驗選取的樣品采(cai)用成熟的PERC技術,每(mei)組(zu)樣品激光處劃線(xian)處理之前工藝(yi)完全相同(tong),且(qie)背面SixNy顏色相近(SixNy顏色隨(sui)著(zhu)厚度呈周期性變化),以保證實驗樣品的(de)一致(zhi)性和實驗數據的(de)準確性。

 

實驗(yan)研究(jiu)內容

實(shi)驗研究背鈍化技術在激(ji)(ji)光(guang)劃線過程中(zhong)激(ji)(ji)光(guang)設備各項參數等對電池性能的影(ying)響,主要研究內容為:

1)不同(tong)激光功(gong)率(lv)對電(dian)池片性(xing)能的影響。實(shi)驗(yan)根據激光器固定參數設定不同(tong)的輸出功(gong)率(lv),以(yi)研(yan)究不同(tong)功(gong)率(lv)條件下電(dian)池片的性(xing)能。

 

2)不同輸(shu)出(chu)頻(pin)率(lv)(lv)對電池片性能的影響。實驗(yan)通過調整激光器(qi)輸(shu)出(chu)頻(pin)率(lv)(lv),探究(jiu)不同頻(pin)率(lv)(lv)條件下的劃線平滑度(du)及(ji)電池片性能。

 

3)不同劃線(xian)(xian)形貌對電池片性能的影響。實驗(yan)通過改變激(ji)光劃線(xian)(xian)線(xian)(xian)寬(kuan)及劃線(xian)(xian)線(xian)(xian)型,探究(jiu)不同劃線(xian)(xian)形貌條件下的電池片性能。

 

實驗工藝(yi)流程

1)原硅片經過成熟的(de)常規工藝制絨(rong)、擴(kuo)散、刻蝕及(ji)氧化(hua)后;在硅片背表(biao)面生長一層(ceng)厚(hou)度約(yue)58nmAl2O3

 

2)本實(shi)驗采用(yong)原子層(ceng)淀積(ji)(ALD)的(de)方式生(sheng)長Al2O3;在Al2O3表(biao)面鍍一層約150nmSixNy保護層后,使用PECVD技術(shu)在硅片(pian)正(zheng)表面鍍一層厚度(du)約為80nmSixNy減反膜(mo);

 

3)最后采用激光技術在(zai)硅片背(bei)面劃線,打通鋁背(bei)場(chang)與硅片基本的連接通道,使(shi)鋁背(bei)場(chang)在(zai)印刷燒結后能與硅片產生有(you)效歐姆接觸;

 

4)硅(gui)片(pian)劃線(xian)后(hou)采用相(xiang)同工藝經(jing)過印刷(shua)燒(shao)結,在(zai)相(xiang)同機臺對(dui)電池片(pian)性能進行測試對(dui)比分析(xi),以保(bao)證(zheng)實驗數據準確(que)性。

 

結果分析(xi)

1)不同功率的對比(bi)

實驗采(cai)用相(xiang)同批次片源進行多組對比(bi)(bi),在保證前段工藝與激光(guang)設備其他參數(shu)完全一致(zhi)的條(tiao)件下(xia),調節激光(guang)器輸出功率,比(bi)(bi)較(jiao)不同功率條(tiao)件下(xia)成品電池片的電性(xing)能差異。

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從實(shi)驗數據可(ke)看(kan)出,在激光設(she)備(bei)功率(lv)調節范(fan)圍(wei)(wei)內,在實(shi)驗功率(lv)遞(di)增的條件下,電(dian)池(chi)效率(lv)波動不(bu)明顯(xian)且無線性變(bian)化的趨勢,這說(shuo)明激光設(she)備(bei)功率(lv)在調節范(fan)圍(wei)(wei)內對電(dian)池(chi)片性能影響并不(bu)大。

 

2)不同(tong)頻率的(de)對比

實驗(yan)選取相同批次(ci)片源進(jin)行(xing)多組對比(bi),在控制其(qi)他變量的條件下(xia),研究不同激(ji)光(guang)頻(pin)率對電池(chi)性(xing)能(neng)的影響(xiang)。在實驗(yan)原有工藝基礎上調節激(ji)光(guang)設(she)備(bei)的輸出頻(pin)率,設(she)置激(ji)光(guang)頻(pin)率梯度,研究了在1.01.52.02.53.03.5MHz頻(pin)率條件下電池片的性能差異,用3D顯微鏡比較了高頻(pin)與低頻(pin)工(gong)藝條件下劃線(xian)后電(dian)(dian)池結(jie)構的(de)微觀形貌,在相同機(ji)臺對其電(dian)(dian)性(xing)能進行(xing)測試(shi)對比,驗證(zheng)激光頻(pin)率對電(dian)(dian)池性(xing)能的(de)影響。

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3D顯微鏡測試結果來看,低(di)頻工藝條件下激光(guang)劃線深度(du)較(jiao)淺,疑(yi)似有SixNy殘留物(wu),且(qie)劃(hua)線(xian)臨界面(mian)呈鋸齒(chi)狀結構;高(gao)(gao)頻工藝條件下(xia)激(ji)光(guang)劃(hua)線(xian)深度相對(dui)較深,且(qie)劃(hua)線(xian)臨界面(mian)十分(fen)平整。這可能是因(yin)為在一(yi)定頻率范圍內,當(dang)激(ji)光(guang)脈(mo)沖作用于電(dian)池表面(mian)時,頻率越(yue)高(gao)(gao)激(ji)光(guang)能量釋放越(yue)大,因(yin)此劃(hua)線(xian)效果也相對(dui)較好(hao)。從電(dian)性能數據來(lai)看,2.0MHz工藝條件下的電(dian)池片性能要優于1.0MHz工藝。

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電池片效率(lv)隨著激光輸出頻率(lv)逐漸增(zeng)加(jia)呈先(xian)升(sheng)后降(jiang)的趨(qu)勢。當(dang)激光頻率(lv)低(di)于2.5MHz 時(shi),電(dian)池片性能隨著頻(pin)率(lv)升高(gao)(gao)而呈遞增(zeng)趨勢;當激(ji)光頻(pin)率(lv)高(gao)(gao)于(yu)2.5MHz時,電池片性能隨著頻(pin)率升高而呈遞減趨勢(shi)。

 

對比實驗數據不(bu)難(nan)看出,當頻(pin)率超過2.5MHz時(shi),電池片填充因子FF也呈(cheng)下降趨勢,進一步影(ying)響(xiang)了(le)電池片(pian)效(xiao)率。這可(ke)能是由于在(zai)激光劃線的過(guo)程中(zhong),激光能量被(bei)SixNy/Al2O3鈍化介質(zhi)膜吸收的同(tong)時,少(shao)部分(fen)溢出的能量也會被硅(gui)襯底吸收;

 

事(shi)實上,激光能(neng)量大部分還是(shi)被SixNy/Al2O3鈍化(hua)介質膜吸(xi)收,以減少對(dui)原硅片的損傷(shang)。而隨著激光頻(pin)率增加,激光脈沖能量隨之增大,劃線效果也相對(dui)越好;當激光頻(pin)率超過2.5MHz時,激(ji)光能量在刻穿SixNy/Al2O3鈍(dun)化介質膜的(de)基礎(chu)上對硅片表面產生了損傷,從而影響了電池片性能(neng)。

 

不同形貌對比

實(shi)驗選(xuan)取相同批次片(pian)源(yuan)進行多組(zu)對比,在保證其他工藝條件完全(quan)一致的(de)情況下,研究不同劃線形貌(線(xian)(xian)寬、線(xian)(xian)型(xing))對電池(chi)性能的影(ying)響(xiang)。兩組實驗(yan)分別(bie)選取相同片源,其中(zhong)實驗(yan)通過3D顯(xian)微鏡測試對比了不同劃(hua)線(xian)線(xian)寬時電池性能(neng)的(de)差(cha)異;而后(hou)選取A組(zu)實(shi)驗樣品(pin)采用連續線劃線工(gong)藝,B組實驗樣品采用間(jian)斷線(劃線0.8mm,不劃線0.2mm)劃線工藝,比較不同劃線線型條件下(xia)電(dian)池(chi)片性能,實驗(yan)數據下(xia)圖

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從(cong)線(xian)(xian)寬可(ke)知,在控制其(qi)他變量的條件下,當劃(hua)線(xian)(xian)線(xian)(xian)寬逐漸增加(jia)時(shi),電池(chi)片(pian)性能也(ye)隨之提(ti)高,這(zhe)可(ke)能是因為相對大的劃(hua)線(xian)(xian)面積提(ti)高了電池(chi)片(pian)表面載流子的運輸性能,從(cong)而使電池(chi)片(pian)性能得到提(ti)升。

 

從線(xian)(xian)型可(ke)知,間斷線(xian)(xian)劃線(xian)(xian)工藝生產的電池片效(xiao)率要比連續線(xian)(xian)劃線(xian)(xian)工藝高0.10%。而在其他實(shi)驗中發現,在燒結(jie)爐溫和鋁漿相同(tong)時,連(lian)續線劃(hua)線工藝(yi)所(suo)生產(chan)的電池(chi)片在經過印刷燒結(jie)后背場更易產(chan)生鋁珠和鋁刺,而間(jian)斷(duan)線劃(hua)線工藝(yi)所(suo)生產(chan)的電池(chi)片則幾乎沒有,這(zhe)也(ye)從側面證實(shi)了間(jian)斷(duan)線劃(hua)線工藝(yi)的優越性(xing)。

 

實驗(yan)結(jie)論

本實驗(yan)采用控(kong)制(zhi)變量法研(yan)究(jiu)了PERC電(dian)池(chi)激光劃線時的激光頻率(lv)、劃線形貌、設(she)備功(gong)率(lv)對電(dian)池(chi)片(pian)性(xing)能的影響(xiang)。實驗(yan)表明(ming):

1)激光器輸(shu)出功率在1417W范圍內,設備功率(lv)對電(dian)池片性(xing)能并無直接影響。

2)激光頻(pin)率在1.03.5MHz范圍內,當(dang)輸出頻率低于2.5MHz時,電池片(pian)性能隨著激光器(qi)輸出頻率(lv)升高(gao)而呈遞增趨(qu)勢(shi);當激光器(qi)輸出頻率(lv)高(gao)于(yu)2.5MHz時,設備輸出(chu)頻率升(sheng)高則會影響FF,從而使電(dian)池片(pian)性(xing)能降低,這可(ke)能與激光劃線深度有(you)關。

3)當劃(hua)線線型(xing)相同時,劃(hua)線線寬在3338μm范(fan)圍內時電(dian)池(chi)片性(xing)能(neng)隨著(zhu)劃(hua)線(xian)(xian)(xian)線(xian)(xian)(xian)寬增加(jia)而提升,這(zhe)可能(neng)是由于相(xiang)對較大的劃(hua)線(xian)(xian)(xian)面積增進了鋁背場與(yu)硅片的有(you)效歐姆接觸,從而提升了電(dian)池(chi)性(xing)能(neng);而就劃(hua)線(xian)(xian)(xian)線(xian)(xian)(xian)型(xing)而言,間斷型(xing)劃(hua)線(xian)(xian)(xian)工藝要優(you)于連(lian)續(xu)型(xing)劃(hua)線(xian)(xian)(xian)工藝。

 

激光工藝過(guo)程注意事項

生產注意事項

1)工藝衛生(sheng):臺面、吸盤、皮帶每班生(sheng)產前進行擦拭;2)生產(chan)前需確認(ren)激光工藝、激光狀(zhuang)態,激光功率:目標(biao)值±0.3W3)生產過程中每50片(pian)確(que)認一(yi)次激光圖形無異(yi)常;4)異常硅(gui)片、手接觸(chu)片全部返(fan)工處理(li);5)激光光斑(ban)控制范圍:34±4μm6. 激光后未(wei)印刷硅片在制品(pin)時間不(bu)得超過2小時。

 

激光(guang)調試(shi)注意事項

1)生產前確認激(ji)光(guang)狀(zhuang)態及(ji)激(ji)光(guang)功(gong)率是否開啟(qi);2)生產前確認生產硅片種類(lei),根據情況(kuang)更改激光圖(tu)形;3)連續生產(chan)前試生產(chan)幾片,查看外觀、激光(guang)圖形等,確認后交付生產(chan);整幅面光(guang)斑均勻性不(bu)好。

 

設備(bei)檢(jian)查(cha)以及維護

1)每(mei)天生產任務完(wan)成(cheng)后需對設備進行清潔(jie),主(zhu)(zhu)要有臺面、白色勻光(guang)板、吸(xi)盤、裝載盒、傳(chuan)送皮帶、主(zhu)(zhu)機內(nei)部大理石(shi)表面、抽塵(chen)(chen)口區域,使用無塵(chen)(chen)布蘸酒精清潔(jie)即可(ke);2)設備運行10天后(hou),使用(yong)吸塵器(qi)對設備內(nei)部進(jin)行徹底清(qing)理,以免硅片(pian)碎(sui)片(pian)或(huo)粉塵長(chang)期堆(dui)積造成機(ji)構(gou)堵塞、電氣短(duan)路(lu)等;3)相機光源(yuan)設(she)備(bei)每運行一周,定時(shi)檢查相機光源(yuan)是(shi)否(fou)有污(wu)染。

 

推薦設備:導電玻璃激光刻蝕機

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