導(dao)電(dian)玻璃是(shi)指透明導(dao)電(dian)氧化物，如(ru)氧化銦(yin)錫ITO、摻雜氟的SnO2 FTO、氧化(hua)鋅ZnO、氧(yang)化鎳NiO、納米銀等，部分為銅、鋁、金等材料，以玻(bo)璃(li)為基(ji)材，通過磁控(kong)濺射等方式將導電材料生(sheng)長在玻(bo)璃(li)上(shang)的產品，常用于(yu)觸摸屏、光(guang)伏太陽能(neng)電池、戶外顯(xian)示、航空航天(tian)等諸多(duo)領域當中。
導電玻璃在產品成型之前需要對其進行刻蝕加工，形成電路圖，光伏行業主要是劃線，做成一個個小單元的電極，增大電壓，無論哪一個應用領域，都需要對其進行刻蝕加工。目前刻蝕工藝主要分為激光刻蝕、等離子刻蝕、化學刻蝕以及機械劃線等幾種方式，武漢元祿光電為大家介紹幾種刻蝕的方法、優缺點以及重點介紹激光刻蝕機的選型。
化學刻蝕(shi)：優點是(shi)加(jia)工速度快(kuai)，一次成型(xing)，適合大面(mian)積加(jia)工；缺點是(shi)添加(jia)劑具有毒性，并(bing)且具有一定的(de)污(wu)染性，操作流程相對復雜，對掩膜版要求(qiu)高(gao)，不(bu)具備(bei)超精密微(wei)納(na)結構的(de)加(jia)工能力。
等離子刻(ke)蝕：超(chao)細(xi)微精密刻(ke)蝕，刻(ke)蝕線寬達到納米級，精度(du)高；缺點是(shi)成本高，對(dui)使用環境等諸多要素都有(you)極高要求。
機械(xie)劃線：主要(yao)優勢(shi)是成本低廉；缺點也顯而易見，對基材的損(sun)傷、線寬控(kong)制(zhi)、精(jing)度控(kong)制(zhi)、效果控(kong)制(zhi)都不如其他加工，早期常應用于光伏太陽能劃線。
激(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)蝕(shi)(shi)：分(fen)為(wei)干法(fa)刻(ke)蝕(shi)(shi)和(he)黃光(guang)(guang)(guang)(guang)曝光(guang)(guang)(guang)(guang)兩種(zhong)，黃光(guang)(guang)(guang)(guang)曝光(guang)(guang)(guang)(guang)的(de)優勢(shi)在于一(yi)次成(cheng)型，精(jing)(jing)度(du)高、刻(ke)蝕(shi)(shi)效果好(hao)、精(jing)(jing)細，缺點(dian)是(shi)成(cheng)本相對較(jiao)(jiao)高，具備污(wu)染(ran)性(xing)。干法(fa)刻(ke)蝕(shi)(shi)是(shi)指激(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)直接入射在材(cai)料表面無(wu)需任何添加劑，通過高能(neng)量的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)束汽化(hua)材(cai)料，形成(cheng)線路或斷路，相比較(jiao)(jiao)于其他(ta)幾種(zhong)工(gong)藝，在導電(dian)玻璃(li)行業中可(ke)謂星(xing)光(guang)(guang)(guang)(guang)熠(yi)熠(yi)，處(chu)處(chu)優勢(shi)明顯，也是(shi)目前整個行業領域內最主流的(de)機器。
激光刻蝕機
激光刻蝕機的(de)主要優點是操作(zuo)簡便，導入CAD或Gerber文(wen)件，通過振鏡偏轉、配合XY軸移動(dong)形成(cheng)大(da)面積的(de)刻蝕(shi)成(cheng)型，無耗(hao)材、無污染，刻蝕(shi)干(gan)凈(jing)，最小線寬可達到亞納(na)米級別，目前武漢(han)元祿光電(dian)(dian)普通振鏡掃(sao)描方式，導電(dian)(dian)ITO玻璃最(zui)小線寬在3微米，而在實驗室內最小可(ke)達700nm線寬，特別適合(he)于導電玻璃微納激光刻蝕(shi)。
激(ji)光刻蝕機用(yong)于導電(dian)玻(bo)璃(li)行業(ye)中主要(yao)激(ji)光波段為1064/532/355nm納(na)秒(miao)、皮(pi)秒(miao)激光刻蝕(shi)機以及1030/515nm/355nm波段的飛秒激(ji)(ji)光(guang)刻蝕(shi)機，根據不(bu)同(tong)的應用場景需(xu)求，配置不(bu)同(tong)的激(ji)(ji)光(guang)器，并且會根據實際需(xu)求選(xuan)擇不(bu)同(tong)的光(guang)學器件，如掃(sao)描幅面、擴束倍(bei)數(shu)、加(jia)工面積等(deng)條(tiao)件。
一般來說(shuo)，激光(guang)刻蝕機的(de)(de)(de)參考(kao)(kao)選型(xing)主要參考(kao)(kao)因素是導電(dian)玻璃的(de)(de)(de)材料(liao)、幅(fu)寬、線寬、線間距(ju)要求，至于說(shuo)材料(liao)的(de)(de)(de)厚度一般都是在幾(ji)百微米范(fan)圍內(nei)，有的(de)(de)(de)甚至只有幾(ji)個納(na)米，對于激光(guang)刻蝕機來說(shuo)不難(nan)加工，主要還是看熱影響范(fan)圍區域，加工后的(de)(de)(de)線寬、線間距(ju)以(yi)及(ji)(ji)線性直線度、加工精度以(yi)及(ji)(ji)誤差等(deng)影響。
因此確(que)定激(ji)光刻(ke)蝕機(ji)的(de)選擇(ze)需(xu)(xu)要明確(que)以上幾點(dian)，根據需(xu)(xu)求推薦對應的(de)機(ji)器類型，一般(ban)來說紅外1064納秒(miao)激光刻蝕機主要適用(yong)于20微米以(yi)上(shang)線寬(kuan)的加工(gong)要求，飛秒激(ji)光刻蝕機主要適用于(yu)多層材料的導電玻璃激(ji)光刻蝕，如(ru)特殊需求仍需以(yi)實(shi)驗(yan)試(shi)樣為(wei)準(zhun)。
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